渦輪分子泵——真空泵中的領導者

真空技術的應用，使大量高科技產品走入人們的日常生活。事實上，在研發和工業領域的大量應用都需要極低的絕對壓力，即高真空環境。得名于渦輪機系列產品，渦輪分子泵代表著全球領先的技術標準。轉速高達 90,000 rpm 的高速轉子能產生應用所需的壓力條件，從而產生在高真空和超高真空范圍內的高達 10-11 mbar 的真空度。

普發真空渦輪分子泵代表著安全的性能

現代渦輪分子泵能獲得超過 400 米/每秒的圓周速度。這將轉化為相應的高轉子動能，當轉子和定子相觸，動能將在瞬間傳輸到外殼和泵的底座上。因此，泵外殼的穩定性具有至關重要的作用，需經過理論和實際的雙重檢驗。普發真空的渦輪分子泵已通過UL 61010和/或Semi S2認證。除機械安全性能外，該認證同時也包括了防火和轉速過高的雙重保護，這向認證是由普發真空與TüV Rheinland共同開創的。

優化客戶利益

真空對于整個生產流程成功與否往往起著決定性作用。一旦出現缺陷批次或者生產失敗，根據用途不同，造成的損失高達數百萬歐元。因此，所有安裝部件具有較高可靠性變得越來越重要。如今，渦輪泵的工作時間常高達十萬小時以上。在這段時間內，應盡可能減少由于維護或服務作業而造成的計劃內中斷。該泵具有可以在現場更換軸承或機油的特點。結合該特點，使其具有極高的可用性。渦輪內置有集成驅動電子設備，從而顯著降低了電纜支出。較先進的驅動技術將能耗降至較低，控制方案也多種多樣。符合防護等級 IP 54 的結構使該泵特別適合于工業用途。結構形式緊湊，即使在狹窄空間，依然可以安裝使用。為了保持低成本，可以為同一尺寸的泵選擇不同的驅動電子設備 可以為同一尺寸的泵選擇不同的驅動電子設備。重量方面也在持續改進：一臺抽速達 250 l/s 的渦輪泵，其重量僅為 6 kg。普發真空渦輪泵廣泛的應用領域不僅涵蓋分析儀器、真空處理和半導體技術，還包括涂層、科研和工業用途。

應用

在很多產品制造和工藝研究領域中，真空技術發揮著決定性的作用。渦輪分子泵對于制造極純工藝條件具有至關重要的作用。
 

應用范圍覆蓋多個領域：

分析儀器（質譜分析法、顯微鏡等）

半導體行業（電子組件、集成電路、太陽能電池等）

光學/玻璃行業（隔熱保護、防反射、反射、濾光鏡鍍膜等）

真空鍍膜技術*（表面保護、裝飾土層、顯示技術、屏幕等）

真空冶金（真空焊接、真空燒結、真空合金、真空爐等）

泄漏檢測（真空系統、機車燃料箱、安全氣囊、真空包裝行業）

科研設施（核粒子物理學、核聚變研究、激光應用等）

燈具行業（燈具生產等）

磁懸浮渦輪分子泵

電磁軸承也被稱作“主動式磁懸浮軸承”，其轉子位置會被不間斷的監測和自動調整，并依靠自動平衡補償來實現無磨損、低震動的運行。保證轉子能持續穩定的工作。同時，這樣的軸承設計也實現了零維護和無潤滑油。

技術上的完美杰作

HiPace M和ATH 500 M擁有5軸磁軸承。利用這種軸承技術，轉子 的位置能被實時控制。在工作中，動平衡裝置會進行自動校準，可 以較小程度上減輕震動和工藝過程中產生的軸承位移。低能耗和極 低的維護成本確保了其極高的性價比。

超強的兼容性

是否覺得不同的界面接口標準讓您頭疼不已？我們的磁懸浮渦輪分 子泵能提供集成化的電子驅動裝置供您選擇，從而滿足各種不同界 面接口的連接需要。

可靠

我們ATH M和ATP M系列的磁懸浮渦輪分子泵擁有5軸磁軸轉子 監測系統和實時的轉子位移自動修正功能。通過采用這種高性能的 軸承技術，我們的泵不僅能確保長時間的穩定性和可靠性，同時運 行時也非常安靜。此系列軸承技術的泵在半導體、鍍膜和干蝕刻等 離子體過程行業的高真空工藝中具有成員地位，此外也廣泛應用于 許多其他工業行業和研發領域。

ATH 3204 M

Holweck 級 5 軸磁懸浮渦輪泵適合用于 N2的直至 3050 l/s 的吸氣能力

產品描述

水冷

帶有CE標志且符合 RoHS 標準

加熱版本（MT）可用于腐蝕性應用

緊湊型集成驅動電子設備

用于在所有情況下的安裝

產品

ATH 3204 M, DN 320 ISO-F，外部驅動電子設備，水冷，非加熱 (TMAAAC64015A)

ATH 3204 MT, DN 320 ISO-F，外部驅動電子設備，水冷，非加熱 (TMAAAC681101)

ATH 3204 M, DN 320 ISO-F，外部驅動電子設備，水冷，非加熱

緊湊型集成驅動電子設備

用于在所有情況下的安裝

水冷，不加熱

帶有CE標志且符合 RoHS 標準

Holweck 級 5 軸磁懸浮渦輪泵適合用于 N2的直至 3,050 l/s 的吸氣能力

連接法蘭 DN 320 ISO-F